电解抛光与化学抛光
关键词：电解抛光 化学抛光
电解抛光是金属阳极反刻溶解过程，使得金属表面产生光泽和改善表面显微几何形状。
电解抛光能改善金属的光学性质和机械性能，能减少摩擦系数，提高冷作状态下的塑性变形能力和增加某些磁性材料的导磁系数；广泛应用于金相学中作为制备金属和合金结晶组织的显微研究用的试片。
电解抛光常用于钢、不锈钢、铝、铜等零件；用于某些工具表面的精加工、用于制取高度反光的表面及高要求的装饰性表面。在多种场景下，电解抛光可以代替繁重的机械抛光，尤其是几何形状复杂、用机械方法难以加工的零件。但是电解抛光不能去除或掩盖深的划痕、深的麻点等缺陷。
化学抛光是金属在特定条件下的化学浸蚀；使得金属表面被化学溶液浸蚀和整平，从而获得比较光亮的表面。
化学抛光与电解抛光比较，其优点是：不需要外加直流电源和夹具，可以抛光几何形状复杂的各种尺寸零件，且生产效率高。其缺点是：溶液的调整和再生困难，且使用期限短，抛光的表面质量略低于电解抛光的质量；抛光过程会产生有害气体。
化学抛光与电解抛光一样，已经广泛应用于铝、铜、不锈钢及钢铁零件，特别是铝件制品应用较广。
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